Kina Siliciumcarbid belægning producent, leverandør, fabrik

VeTek Semiconductor har specialiseret sig i produktion af ultrarene siliciumcarbidbelægningsprodukter, disse belægninger er designet til at blive påført på renset grafit, keramik og ildfaste metalkomponenter.

Vores belægninger med høj renhed er primært målrettet til brug i halvleder- og elektronikindustrien. De tjener som et beskyttende lag for waferbærere, susceptorer og varmeelementer, og beskytter dem mod ætsende og reaktive miljøer, der opstår i processer som MOCVD og EPI. Disse processer er integrerede i waferbehandling og fremstilling af enheder. Derudover er vores belægninger velegnede til anvendelser i vakuumovne og prøveopvarmning, hvor der forekommer højvakuum, reaktive og oxygenmiljøer.

Hos VeTek Semiconductor tilbyder vi en omfattende løsning med vores avancerede maskinværkstedskapacitet. Dette gør os i stand til at fremstille basiskomponenterne ved hjælp af grafit, keramik eller ildfaste metaller og påføre SiC- eller TaC-keramiske belægninger internt. Vi leverer også belægningstjenester til kundeleverede dele, hvilket sikrer fleksibilitet til at imødekomme forskellige behov.

Vores siliciumcarbidbelægningsprodukter er meget udbredt i Si-epitaksi, SiC-epitaksi, MOCVD-system, RTP/RTA-proces, ætseproces, ICP/PSS-ætseproces, proces af forskellige LED-typer, herunder blå og grøn LED, UV LED og dyb-UV LED mm., som er tilpasset udstyr fra LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI og så videre.

Reaktordele vi kan lave:

Siliciumcarbidbelægning flere unikke fordele:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating Parameter:

Grundlæggende fysiske egenskaber af CVD SiC belægning
Ejendom	Typisk værdi
Krystal struktur	FCC β-fase polykrystallinsk, hovedsageligt (111) orienteret
Tæthed	3,21 g/cm³
Hårdhed	2500 Vickers hårdhed (500 g belastning)
Kornstørrelse	2~10μm
Kemisk renhed	99,99995 %
Varmekapacitet	640 J·kg-1·K-1
Sublimeringstemperatur	2700 ℃
Bøjestyrke	415 MPa RT 4-punkts
Youngs modul	430 Gpa 4pt bøjning, 1300℃
Termisk ledningsevne	300W·m-1·K-1
Termisk ekspansion (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

CVD SiC belagt nederdel

VeTek Semiconductor er en førende producent, innovator og leder af CVD SiC Coating og TAC Coating i Kina. I mange år har vi fokuseret på forskellige CVD SiC Coating produkter såsom CVD SiC coated Skirt, CVD SiC Coating Ring, CVD SiC Coating carrier osv. VeTek Semiconductor understøtter kundetilpassede produktservices og tilfredsstillende produktpriser, og ser frem til din videre konsultation.

Læs mere Send forespørgsel

UV LED Epi Susceptor

Som en førende kinesisk producent og leder af halvlederprodukter har VeTek Semiconductor fokuseret på forskellige typer suceptorprodukter såsom UV LED Epi Susceptor, Deep-UV LED Epitaxial Susceptor, SiC Coating Susceptor, MOCVD Susceptor, etc. i mange år. VeTek Semiconductor er forpligtet til at levere avanceret teknologi og produktløsninger til halvlederindustrien, og vi ser oprigtigt frem til at blive din partner i Kina.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC Coating Baffel

Vetek Semiconductors CVD SiC Coating Baffle bruges hovedsageligt i Si Epitaxy. Det bruges normalt med silicium forlængelsestønder. Den kombinerer den unikke høje temperatur og stabilitet af CVD SiC Coating Baffle, hvilket i høj grad forbedrer den ensartede fordeling af luftstrømmen i halvlederfremstilling. Vi tror på, at vores produkter kan give dig avanceret teknologi og produktløsninger af høj kvalitet.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC grafitcylinder

Vetek Semiconductors CVD SiC grafitcylinder er afgørende i halvlederudstyr, der tjener som et beskyttende skjold i reaktorer for at beskytte interne komponenter i høje temperatur- og trykindstillinger. Det beskytter effektivt mod kemikalier og ekstrem varme og bevarer udstyrets integritet. Med enestående slid- og korrosionsbestandighed sikrer den lang levetid og stabilitet i udfordrende miljøer. Brug af disse dæksler forbedrer halvlederens ydeevne, forlænger levetiden og mindsker vedligeholdelseskrav og skadesrisici. Velkommen til at forespørge os.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC belægningsdyse

Vetek Semiconductors CVD SiC-belægningsdyser er afgørende komponenter, der bruges i LPE SiC-epitaksiprocessen til afsætning af siliciumcarbidmaterialer under halvlederfremstilling. Disse dyser er typisk lavet af højtemperatur og kemisk stabilt siliciumcarbidmateriale for at sikre stabilitet i barske forarbejdningsmiljøer. Designet til ensartet aflejring spiller de en nøglerolle i at kontrollere kvaliteten og ensartetheden af epitaksiale lag, der dyrkes i halvlederapplikationer. Ser frem til at etablere et langsigtet samarbejde med dig.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC Coating Protector

Vetek Semiconductor leverer CVD SiC Coating Protector, der bruges er LPE SiC epitaksi, Udtrykket "LPE" refererer normalt til lavtryksepitaxi (LPE) i lavtryks kemisk dampaflejring (LPCVD). Ved fremstilling af halvledere er LPE en vigtig procesteknologi til dyrkning af tynde enkeltkrystalfilm, der ofte bruges til at dyrke epitaksiale siliciumlag eller andre epitaksiale halvlederlag. Tøv ikke med at kontakte os for flere spørgsmål.

Læs mere Send forespørgsel

<...6 7 8 9 10...16 >

Som en professionel Siliciumcarbid belægning producent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for tilpassede tjenester for at imødekomme de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avanceret og holdbar Siliciumcarbid belægning fremstillet i Kina, kan du efterlade os en besked.