TaC Coating Rotationsplade

VeTek Semiconductors TaC-belægningsrotationsplade har en høj renhedssammensætning, et urenhedsindhold på mindre end 5 ppm og en tæt og ensartet struktur, som er meget udbredt i LPE EPI-systemer, Aixtron-systemer, Nuflare-systemer, TEL CVD-systemer, VEECO-systemer, TSI systemer.

Fremragende mekaniske egenskaber:

Belægningshårdhed op til 2300HV, med fremragende slidstyrke.

Vedhæftningen mellem belægningen og underlaget er stærk, og den er ikke let at falde af eller skrælle.

Belægningen kan stadig opretholde en god strukturel stabilitet ved høj temperatur.

Fremragende korrosionsbestandighed:

TaC-materialet i sig selv har fremragende kemisk stabilitet og korrosionsbestandighed.

VeTek semiconductors belægninger fungerer godt i en række aggressive gasmiljøer.

Kan effektivt beskytte udstyrets interne komponenter mod korrosionsskader.

Høj overfladefinish:

VeTek semiconductor bruger en præcis belægningsproces til at producere den ønskede finish.

Lav overfladeruhed hjælper med at reducere partikelakkumulering og aflejring.

Belægningens konsistens er god:

VeTek Semiconductorhar et lydkvalitetskontrolsystem for at sikre ensartet ydeevne mellem batches.

Belægningstykkelsen er jævnt fordelt, og der er ingen åbenlyse lokale defekter.

Fremragende praktisk applikationsydelse:

VeTek semiconductors TaC-belægning er meget udbredt i mange kendte producenter af epitaksialudstyr i ind- og udland.

Produktets fysiske parameter for den TaC-coatede rotationsplade: