TaC Coating Chuck
  • TaC Coating ChuckTaC Coating Chuck

TaC Coating Chuck

VeTek Semiconductors TaC Coating Chuck har en TaC-belægning af høj kvalitet, kendt for sin enestående højtemperaturresistens og kemiske inerthed, især i siliciumcarbid (SiC) epitaksi (EPI) processer. Med sine enestående egenskaber og overlegne ydeevne tilbyder vores TaC Coating Chuck flere vigtige fordele. Vi er forpligtet til at levere kvalitetsprodukter til konkurrencedygtige priser og ser frem til at være din langsigtede partner i Kina.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

VeTek Semiconductors TaC Coating Chuck er den ideelle løsning til at opnå exceptionelle resultater i SiC EPI-processen. Med sin TaC-belægning, modstandsdygtighed over for høje temperaturer og kemisk inerthed, giver vores produkt dig mulighed for at producere krystaller af høj kvalitet med præcision og pålidelighed. Velkommen til at forespørge os.

TaC (tantalcarbid) er et materiale, der almindeligvis anvendes til at belægge overfladen af ​​indre dele af epitaksialt udstyr. Det har følgende egenskaber:

Fremragende modstandsdygtighed over for høje temperaturer: TaC-belægninger kan modstå temperaturer op til 2200°C, hvilket gør dem ideelle til applikationer i højtemperaturmiljøer, såsom epitaksiale reaktionskamre.

Høj hårdhed: Hårdheden af ​​TaC når omkring 3000-4000 HV, hvilket er meget hårdere end almindeligt anvendt rustfrit stål eller aluminiumslegering, som effektivt kan forhindre overfladeslid.

Stærk kemisk stabilitet: TaC-belægning fungerer godt i kemisk korrosive miljøer og kan i høj grad forlænge levetiden for epitaksiale udstyrskomponenter.

God elektrisk ledningsevne: TaC belægning har god elektrisk ledningsevne, som er befordrende for elektrostatisk frigivelse og varmeledning.

Disse egenskaber gør TaC-belægning til et ideelt materiale til fremstilling af kritiske dele såsom indvendige bøsninger, reaktionskammervægge og varmeelementer til epitaksialt udstyr. Ved at belægge disse komponenter med TaC, kan den samlede ydeevne og levetid for det epitaksiale udstyr forbedres.

For siliciumcarbid-epitaksi kan TaC-belægningsklump også spille en vigtig rolle. Overfladen af ​​TaC-belægning er glat og tæt, hvilket er befordrende for dannelsen af ​​højkvalitets siliciumcarbidfilm. Samtidig kan den fremragende termiske ledningsevne af TaC hjælpe med at forbedre ensartetheden af ​​temperaturfordelingen inde i udstyret, og derved forbedre temperaturkontrolnøjagtigheden af ​​den epitaksiale proces og i sidste ende opnå højere kvalitet siliciumcarbid epitaksial lagvækst.


Produktparameter for TaC Coating Chunk:

Fysiske egenskaber ved TaC-belægning
Massefylde 14,3 (g/cm³)
Specifik emissionsevne 0.3
Termisk udvidelseskoefficient 6,3 10-6/K
Hårdhed (HK) 2000 HK
Modstand 1×10-5 Ohm*cm
Termisk stabilitet <2500℃
Grafitstørrelsen ændres -10~-20um
Belægningstykkelse ≥20um typisk værdi (35um±10um)


Industriel kæde:


Produktionsbutik


Hot Tags: TaC Coating Chuck, Kina, producent, leverandør, fabrik, tilpasset, køb, avanceret, holdbar, fremstillet i Kina
Relateret kategori
Send forespørgsel
Du er velkommen til at give din forespørgsel i nedenstående formular. Vi svarer dig inden for 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept