VeTek Semiconductor er en førende tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst-producent og innovator i Kina. Vi har været specialiseret i keramisk belægning i mange år. Vores produkter har en høj renhed og høj temperaturbestandighed. Vi ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.
Du kan være sikker på at købe tilpasset tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst fra VeTek Semiconductor. Vi ser frem til at samarbejde med dig, hvis du vil vide mere, kan du kontakte os nu, vi vil svare dig i tide!
VeTek Semiconductor tilbyder Tantalcarbide Coated Tube til Krystalvækst, der er specielt designet til SiC-krystalvækst ved hjælp af Physical Vapor Transport (PVT)-metoden. VeTek Semiconductors grafitrør har høj renhed med CVD-tantalcarbid-belægning, hvilket sikrer optimal ydeevne i SiC-krystalvækst. SiC-krystaller, kendt som tredje generations halvledere, rummer et enormt potentiale i forskellige applikationer. Ved at bruge vores tantalcarbidbelagte rør til krystalvækst kan forskere og branchefolk effektivt optimere SiC-vækst og producere SiC-krystalboller af høj kvalitet. Uanset om du er involveret i forskning eller industriel produktion, giver vores produkter pålidelige løsninger til effektiv SiC-krystalvækst.
Udover TaC-belagt grafitrør, leverer VeTek Semiconductor også TaC-belagte ringe, TaC-belagt digel, TaC-belagt porøs grafit, TaC-belagt grafit-susceptor, TaC-belagt styrering, TaC-tantalcarbid-belagt plade, TaC-belægningsring, TaC-belagt grafitdæksel, TaC-belagt grafit-belægning chunk til krystalvækstovn som nedenfor:
Fysiske egenskaber ved TaC-belægning | |
Tæthed | 14,3 (g/cm³) |
Specifik emissionsevne | 0.3 |
Termisk udvidelseskoefficient | 6,3 10-6/K |
Hårdhed (HK) | 2000 HK |
Modstand | 1×10-5Ohm*cm |
Termisk stabilitet | <2500℃ |
Grafitstørrelsen ændres | -10~-20um |
Belægningstykkelse | ≥20um typisk værdi (35um±10um) |