Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst
  • Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækstTantalkarbidbelagt rør til krystalvækst
  • Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækstTantalkarbidbelagt rør til krystalvækst
  • Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækstTantalkarbidbelagt rør til krystalvækst
  • Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækstTantalkarbidbelagt rør til krystalvækst

Tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst

VeTek Semiconductor er en førende tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst-producent og innovator i Kina. Vi har været specialiseret i keramisk belægning i mange år. Vores produkter har en høj renhed og høj temperaturbestandighed. Vi ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Du kan være sikker på at købe tilpasset tantalkarbidbelagt rør til krystalvækst fra VeTek Semiconductor. Vi ser frem til at samarbejde med dig, hvis du vil vide mere, kan du kontakte os nu, vi vil svare dig i tide!


VeTek Semiconductor tilbyder Tantalcarbide Coated Tube til Krystalvækst, der er specielt designet til SiC-krystalvækst ved hjælp af Physical Vapor Transport (PVT)-metoden. VeTek Semiconductors grafitrør har høj renhed med CVD-tantalcarbid-belægning, hvilket sikrer optimal ydeevne i SiC-krystalvækst. SiC-krystaller, kendt som tredje generations halvledere, rummer et enormt potentiale i forskellige applikationer. Ved at bruge vores tantalcarbidbelagte rør til krystalvækst kan forskere og branchefolk effektivt optimere SiC-vækst og producere SiC-krystalboller af høj kvalitet. Uanset om du er involveret i forskning eller industriel produktion, giver vores produkter pålidelige løsninger til effektiv SiC-krystalvækst.


Udover TaC-belagt grafitrør, leverer VeTek Semiconductor også TaC-belagte ringe, TaC-belagt digel, TaC-belagt porøs grafit, TaC-belagt grafit-susceptor, TaC-belagt styrering, TaC-tantalcarbid-belagt plade, TaC-belægningsring, TaC-belagt grafitdæksel, TaC-belagt grafit-belægning chunk til krystalvækstovn som nedenfor:


TaC coated graphite tube


PVT-metoden SiC Crystal Growth

PVT method SiC Crystal Growth


Produktparameter for det tantalkarbidbelagte rør til krystalvækst


Fysiske egenskaber ved TaC-belægning
Tæthed 14,3 (g/cm³)
Specifik emissionsevne 0.3
Termisk udvidelseskoefficient 6,3 10-6/K
Hårdhed (HK) 2000 HK
Modstand 1×10-5Ohm*cm
Termisk stabilitet <2500℃
Grafitstørrelsen ændres -10~-20um
Belægningstykkelse ≥20um typisk værdi (35um±10um)


Wafer ydeevne efter brug af vores komponenter

Wafer performance after using our components


VeTek Semiconductor Production Shop

Veteksemi Tantalum Carbide Coated Tube for Crystal Growth shops


Oversigt over halvlederchip-epitaksi-industrikæden:

the semiconductor chip epitaxy industry chain


Hot Tags: Tantalcarbid belagt rør til krystalvækst, Kina, producent, leverandør, fabrik, tilpasset, køb, avanceret, holdbart, fremstillet i Kina
Relateret kategori
Send forespørgsel
Du er velkommen til at give din forespørgsel i nedenstående formular. Vi svarer dig inden for 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept