SiC coated Wafer Holder

VeTek Semiconductors SiC Coated Wafer Holder bruges normalt til at fikse og understøtte wafers under halvlederbehandling. Det er en højtydendewaferbærerudbredt i halvlederfremstilling. Ved at belægge et lag siliciumcarbid (SiC) på overfladen afsubstrat, kan produktet effektivt forhindre substratet i at korrosion og forbedre korrosionsbestandigheden og den mekaniske styrke af waferbæreren, hvilket sikrer stabilitet og præcisionskrav til behandlingsprocessen.

SiC belagt Wafer Holderbruges normalt til at fikse og understøtte wafere under halvlederbehandling. Det er en højtydende wafer-bærer, der er meget udbredt i halvlederfremstilling. Ved at belægge et lag afsiliciumcarbid (SiC)På overfladen af ​​substratet kan produktet effektivt forhindre substratet fra korrosion og forbedre korrosionsbestandigheden og den mekaniske styrke af waferbæreren, hvilket sikrer stabilitet og præcisionskrav til behandlingsprocessen.

Siliciumcarbid (SiC) har et smeltepunkt på omkring 2.730°C og har fremragende varmeledningsevne på omkring 120-180 W/m·K. Denne egenskab kan hurtigt sprede varme i højtemperaturprocesser og forhindre overophedning mellem waferen og bæreren. Derfor bruger SiC Coated Wafer Holder normalt siliciumcarbid (SiC) coated grafit som substrat.

Kombineret med den ekstremt høje hårdhed af SiC (Vickers hårdhed på omkring 2.500 HV), kan siliciumcarbid (SiC) belægningen aflejret af CVD processen danne en tæt og stærk beskyttende belægning, som i høj grad forbedrer slidstyrken af ​​SiC Coated Wafer Holder .

VeTek Semiconductors SiC Coated Wafer Holder er lavet af SiC coated grafit og er en uundværlig nøglekomponent i moderne halvlederepitaksiprocesser. Den kombinerer på en smart måde den fremragende varmeledningsevne af grafit (varmeledningsevne er omkring 100-400 W/m·K ved stuetemperatur) og mekanisk styrke, og den fremragende kemiske korrosionsbestandighed og termiske stabilitet af siliciumcarbid (smeltepunktet for SiC er ca. 2.730°C), som perfekt opfylder de strenge krav i dagens avancerede halvlederproduktionsmiljø.

Denne enkelt-wafer design holder kan præcist styreepitaksial procesparametre, som hjælper med at producere højkvalitets, højtydende halvlederenheder. Dens unikke strukturelle design sikrer, at waferen håndteres med den største omhu og præcision gennem hele processen, hvilket sikrer den fremragende kvalitet af det epitaksiale lag og forbedrer ydeevnen af ​​det endelige halvlederprodukt.

Som Kinas førendeSiC belagtWafer Holder producent og leder, VeTek Semiconductor kan levere tilpassede produkter og tekniske tjenester i henhold til dit udstyr og proceskrav.Vi håber inderligt at være din langsigtede partner i Kina.

Grundlæggende fysiske egenskaber af CVD SiC belægning:

VeTek Semiconductor SiC Coated Wafer Holder Productions Butikker：