Hvad er CVD TAC Coating?

Som vi alle ved,TaChar et smeltepunkt på op til 3880°C, høj mekanisk styrke, hårdhed, modstandsdygtighed over for termisk stød; god kemisk inertitet og termisk stabilitet over for ammoniak, brint, siliciumholdig damp ved høje temperaturer.

CVD TAC belægning, kemisk dampaflejring (CVD) aftantalcarbid (TaC) belægning, er en proces til dannelse af en højdensitet og holdbar belægning på et substrat (normalt grafit). Denne metode involverer aflejring af TaC på overfladen af ​​substratet ved høje temperaturer, hvilket resulterer i en belægning med fremragende termisk stabilitet og kemisk resistens.

De vigtigste fordele ved CVD TaC-belægninger omfatter:

Ekstremt høj termisk stabilitet: kan modstå temperaturer over 2200°C.

Kemisk resistens: kan effektivt modstå skrappe kemikalier som brint, ammoniak og siliciumdamp.

Stærk vedhæftning: sikrer langvarig beskyttelse uden delaminering.

Høj renhed: minimerer urenheder, hvilket gør den ideel til halvlederapplikationer.

Disse belægninger er særligt velegnede til miljøer, der kræver høj holdbarhed og modstandsdygtighed over for ekstreme forhold, såsom halvlederfremstilling og industrielle processer ved høje temperaturer.

I industriel produktion er det meget sandsynligt, at grafit (carbon-carbon-komposit)-materialer belagt med TaC-belægning erstatter traditionel højrent grafit, pBN-belægning, SiC-belægningsdele osv. Derudover har TaC inden for rumfart et stort potentiale for at bruges som en højtemperatur-antioxidations- og anti-ablationsbelægning og har brede anvendelsesmuligheder. Der er dog stadig mange udfordringer for at opnå fremstilling af tæt, ensartet, ikke-flagende TaC-belægning på overfladen af ​​grafit og fremme industriel masseproduktion.

I denne proces er det afgørende for tredjegenerations halvlederkrystalvækst og epitaksi at udforske belægningens beskyttelsesmekanisme, forny produktionsprocessen og konkurrere med det øverste udenlandske niveau.