Hjem > Produkter > Speciel grafit > Isotropisk grafit > Grafitdigel med tre kronblade
Grafitdigel med tre kronblade
  • Grafitdigel med tre kronbladeGrafitdigel med tre kronblade
  • Grafitdigel med tre kronbladeGrafitdigel med tre kronblade

Grafitdigel med tre kronblade

VeTek Semiconductors Tre-bladede Graphite Crucible er en speciel beholder designet til termisk behandling af halvledermaterialer, især til fremstilling af enkeltkrystaller. Det spiller en afgørende rolle i at kontrollere væksten af ​​enkeltkrystalstrukturer, der kræves til fremstilling af halvlederenheder. VeTek Semiconductor's ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

VeTek Semiconductor er en professionel producent og leverandør af grafitdigel med tre kronblade i Kina. Velkommen til at forespørge os! VeTek Semiconductors grafitdigel med tre kronblade er primært fremstillet af højrent grafitmateriale, der tilbyder fremragende termisk stabilitet, kemisk resistens og termiske ekspansionsegenskaber. Disse egenskaber gør det muligt for VeTek Semiconductor's Tre-bladede Graphite Crucible at modstå ekstreme forhold under højtemperaturbehandling.

Grafitdiglen med tre kronblade er præcist designet til at håndtere de krævende betingelser i halvlederfremstillingsprocesser. Den har et robust cylindrisk design med en glat indvendig overflade, hvilket letter jævn varmefordeling og krystalvækst. Derudover er VeTek Semiconductors trebladede grafitdigel designet til at minimere risikoen for forurening af halvledermateriale med urenheder.

Grafitdiglen med tre kronblade udviser enestående termisk ledningsevne, hvilket sikrer effektiv varmeoverførsel og ensartet temperaturfordeling under krystallisationsprocessen. Dette fremmer ensartet krystalvækst og minimerer termiske gradienter, der kan påvirke produktkvaliteten.

VeTek Semiconductor's Three-petal Graphite Crucible finder bred anvendelse i forskellige halvlederfremstillingsprocesser, herunder væksten af ​​enkeltkrystal siliciumbarrer gennem teknikker som Czochralski-metoden og flydende zone-metoden. Disse digler giver et stabilt og kontrolleret miljø til præcis halvlederkrystaldannelse, hvilket er afgørende for at producere materialer af høj kvalitet til elektroniske enheder.

Kontakt venligst VeTek Semiconductor for detaljerede produktspecifikationer for den tre-bladede grafitdigel.


Produktparameter for Grafitdiglen med tre kronblade

Fysiske egenskaber af isostatisk grafit
Ejendom Enhed Typisk værdi
Bulkdensitet g/cm³ 1.83
Hårdhed HSD 58
Elektrisk resistivitet mΩ.m 10
Bøjningsstyrke MPa 47
Trykstyrke MPa 103
Trækstyrke MPa 31
Youngs modul GPa 11.8
Termisk ekspansion (CTE) 10-6K-1 4.6
Varmeledningsevne W·m-1·K-1 130
Gennemsnitlig kornstørrelse μm 8-10
Porøsitet % 10
Askeindhold ppm ≤10 (efter oprensning)


VeTek Semiconductor Production Shop


Oversigt over halvlederchip-epitaksi-industrikæden:


Hot Tags: Grafitdigel med tre kronblade, Kina, producent, leverandør, fabrik, tilpasset, køb, avanceret, holdbar, fremstillet i Kina
Relateret kategori
Send forespørgsel
Du er velkommen til at give din forespørgsel i nedenstående formular. Vi svarer dig inden for 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept