SiC brusehoved

Du kan være sikker på at købe SiC brusehoved fra vores fabrik.

Siliciumcarbidmaterialer har en unik kombination af fremragende termiske, elektriske og kemiske egenskaber, hvilket gør dem ideelle til applikationer i halvlederindustrien, hvor der kræves højtydende materialer.

VeTek Semiconductors revolutionerende teknologi muliggør produktionen af ​​SiC Shower Head, et siliciumcarbidmateriale med ultrahøj renhed skabt gennem processen med kemisk dampaflejring.

SiC-brusehovedet er en afgørende komponent i halvlederfremstilling, specielt designet til MOCVD-systemer, siliciumepitaksi og SiC-epitaksiprocesser. Fremstillet af robust solidt siliciumcarbid (SiC), kan denne komponent modstå de ekstreme forhold ved plasmabehandling og højtemperaturapplikationer.

Siliciumcarbid (SiC) er kendt for sin høje termiske ledningsevne, kemiske korrosionsbestandighed og enestående mekaniske styrke, hvilket gør det til et ideelt materiale til bulk SiC-komponenter som SiC-brusehovedet. Gasbrusehovedet sikrer en jævn fordeling af procesgasser over waferoverfladen, hvilket er essentielt for at producere epitaksiale lag af høj kvalitet. Fokusringe og kantringe, ofte lavet af CVD-SiC, opretholder ensartet plasmafordeling og beskytter kammeret mod forurening, hvilket øger effektiviteten og udbyttet af epitaksial vækst.

Med sin præcise gasflowkontrol og enestående materialeegenskaber er SiC-brusehovedet en nøglekomponent i moderne halvlederbehandling, der understøtter avancerede applikationer inden for siliciumepitaksi og SiC-epitaksi.

VeTek Semiconductor tilbyder et sintret siliciumcarbid-halvlederbrusehoved med lav resistivitet. Vi har evnen til at specialdesigne og levere avancerede keramiske materialer ved at bruge en række unikke egenskaber.

Produktparameter for SiC-brusehovedet:

Produktionsbutik