Produkter

View as

CVD SiC belagt nederdel

VeTek Semiconductor er en førende producent, innovator og leder af CVD SiC Coating og TAC Coating i Kina. I mange år har vi fokuseret på forskellige CVD SiC Coating produkter såsom CVD SiC coated Skirt, CVD SiC Coating Ring, CVD SiC Coating carrier osv. VeTek Semiconductor understøtter kundetilpassede produktservices og tilfredsstillende produktpriser, og ser frem til din videre konsultation.

Læs mere Send forespørgsel

CVD TaC Coating Carrier

VeTek Semiconductors CVD TaC Coating-bærer er hovedsageligt designet til den epitaksiale proces af halvlederfremstilling. CVD TaC Coating-bærerens ultrahøje smeltepunkt, fremragende korrosionsbestandighed og enestående termisk stabilitet bestemmer uundværligheden af dette produkt i halvlederepitaksiale processer. Vi håber inderligt at opbygge et langsigtet forretningsforhold med dig.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC Coating Baffel

Vetek Semiconductors CVD SiC Coating Baffle bruges hovedsageligt i Si Epitaxy. Det bruges normalt med silicium forlængelsestønder. Den kombinerer den unikke høje temperatur og stabilitet af CVD SiC Coating Baffle, hvilket i høj grad forbedrer den ensartede fordeling af luftstrømmen i halvlederfremstilling. Vi tror på, at vores produkter kan give dig avanceret teknologi og produktløsninger af høj kvalitet.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC grafitcylinder

Vetek Semiconductors CVD SiC grafitcylinder er afgørende i halvlederudstyr, der tjener som et beskyttende skjold i reaktorer for at beskytte interne komponenter i høje temperatur- og trykindstillinger. Det beskytter effektivt mod kemikalier og ekstrem varme og bevarer udstyrets integritet. Med enestående slid- og korrosionsbestandighed sikrer den lang levetid og stabilitet i udfordrende miljøer. Brug af disse dæksler forbedrer halvlederens ydeevne, forlænger levetiden og mindsker vedligeholdelseskrav og skadesrisici. Velkommen til at forespørge os.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC belægningsdyse

Vetek Semiconductors CVD SiC-belægningsdyser er afgørende komponenter, der bruges i LPE SiC-epitaksiprocessen til afsætning af siliciumcarbidmaterialer under halvlederfremstilling. Disse dyser er typisk lavet af højtemperatur og kemisk stabilt siliciumcarbidmateriale for at sikre stabilitet i barske forarbejdningsmiljøer. Designet til ensartet aflejring spiller de en nøglerolle i at kontrollere kvaliteten og ensartetheden af epitaksiale lag, der dyrkes i halvlederapplikationer. Ser frem til at etablere et langsigtet samarbejde med dig.

Læs mere Send forespørgsel

CVD SiC Coating Protector

Vetek Semiconductor leverer CVD SiC Coating Protector, der bruges er LPE SiC epitaksi, Udtrykket "LPE" refererer normalt til lavtryksepitaxi (LPE) i lavtryks kemisk dampaflejring (LPCVD). Ved fremstilling af halvledere er LPE en vigtig procesteknologi til dyrkning af tynde enkeltkrystalfilm, der ofte bruges til at dyrke epitaksiale siliciumlag eller andre epitaksiale halvlederlag. Tøv ikke med at kontakte os for flere spørgsmål.

Læs mere Send forespørgsel

<1 2 3 4 >