MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek Semiconductor’sMOCVD LED Epi Susceptorer en kernekomponent. I forberedelsesprocessen af ​​halvlederenheder,MOCVD LED Epi Susceptorer ikke kun en simpel opvarmningsplatform, men også et præcisionsprocesværktøj, som har en dyb indvirkning på kvaliteten, væksthastigheden, ensartetheden og andre aspekter af tyndfilmsmaterialer.

De specifikke anvendelser afMOCVD LED Epi Susceptori halvlederbehandling er som følger:

Underlagsopvarmning og ensartethedskontrol:

MOCVD Epitaxy Susceptor bruges til at give ensartet opvarmning for at sikre stabil temperatur på substratet under epitaksial vækst. Dette er vigtigt for at opnå halvlederfilm af høj kvalitet og sikre konsistens i tykkelse og krystalkvalitet af epitaksiale lag på tværs af substratet.

Støtte til kemisk dampaflejring (CVD) reaktorkamre:

Som en vigtig komponent i CVD-reaktoren understøtter Susceptor aflejringen af ​​metalorganiske forbindelser på substrater. Det hjælper nøjagtigt at omdanne disse forbindelser til faste film for at danne de ønskede halvledermaterialer.

Fremme gasdistribution:

Designet af Susceptor kan optimere strømningsfordelingen af ​​gasser i reaktionskammeret, hvilket sikrer, at reaktionsgassen kommer i jævnt kontakt med substratet og derved forbedre ensartetheden og kvaliteten af ​​epitaksiale film.

Du kan være sikker på at købe skræddersyetMOCVD LED Epi Susceptorfra os, vi ser frem til at samarbejde med dig. Hvis du vil vide mere, kan du kontakte os med det samme, og vi vil svare dig i tide!

Grundlæggende fysiske egenskaber af CVD SiC belægning:

Produktionsbutikker:

Oversigt over halvlederchip-epitaksi-industrikæden：