Horisontal SiC Wafer Carrier

VeTek Semiconductor er en professionel producent og leverandør af TaC-coated guidering, horisontal SiC wafer carrier og SiC-coated susceptorer i Kina. Vi er forpligtet til at levere perfekt teknisk support og ultimative produktløsninger til halvlederindustrien. Velkommen til at kontakte os.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

VeTek SemiconductorsHorisontal SiC Wafer Carrier/Båd har et ekstremt højt smeltepunkt (ca. 2700°C), hvilket gør det muligtHorisontal SiC Wafer Carrier/Båd til at arbejde stabilt i højtemperaturmiljøer uden deformation eller nedbrydning. Denne egenskab er særlig vigtig i halvlederfremstillingsprocessen, især i processer såsom højtemperaturudglødning eller kemisk dampaflejring (CVD).

DetHorisontal SiC Wafer Carrier/Boat spiller specifikt følgende roller i processen med at bære wafer-bærere:

Silicium wafer bærer og støtte: Den horisontale SiC Wafer Boat bruges hovedsageligt til at bære og understøtte siliciumwafers under halvlederfremstilling. Den kan godt arrangere flere siliciumskiver sammen for at sikre, at de forbliver i god position og stabilitet gennem hele forarbejdningsprocessen.

Ensartet opvarmning og køling: På grund af SiC's høje termiske ledningsevne kan Wafer Boat effektivt fordele varmen jævnt til alle siliciumwafers. Dette hjælper med at opnå ensartet opvarmning eller afkøling af siliciumwafers under højtemperaturbehandling, hvilket sikrer ensartethed og pålidelighed af forarbejdningsprocessen.

Forebyg forurening: SiC's kemiske stabilitet gør det muligt for det at fungere godt i høje temperaturer og ætsende gasmiljøer, hvorved siliciumwafers udsættelse for mulige kontaminanter eller reaktanter reduceres, hvilket sikrer renheden og kvaliteten af siliciumwafers.

Faktisk kan den horisontale SiC Wafer Boat spille ovenstående rolle på grund af dens unikke produktegenskaber:

Fremragende kemisk stabilitet: SiC-materiale har fremragende korrosionsbestandighed over for en række kemiske medier. I processen med at behandle ætsende gasser eller væsker kan SiC Wafer Boat effektivt modstå kemisk korrosion og beskytte siliciumwafers mod forurening eller beskadigelse.

Høj varmeledningsevne: SiC's høje termiske ledningsevne hjælper med at fordele varmen jævnt i bæreprocessen og reducere varmeakkumulering. Dette kan forbedre nøjagtigheden af temperaturkontrol under præcisionsbehandling og sikre ensartet opvarmning eller afkøling af siliciumwafers.

Lav termisk udvidelseskoefficient: SiC-materialets lave termiske udvidelseskoefficient betyder, at dimensionsændringen af SiC Wafer Boat er meget lille under temperaturændringer. Dette hjælper med at opretholde dimensionsstabilitet under højtemperaturbehandling og forhindrer deformation eller positionsforskydning af siliciumskiver forårsaget af termisk ekspansion.

Grundlæggende fysiske egenskaber af Horisontal SiC Wafer Carrier: