High Purity SiC Cantilever-pagaj

High Purity SiC Cantilever-pagaj er en nøglekomponent, der bruges i halvlederbehandlingsudstyr. Produktet er lavet af højrent siliciumcarbid (SiC) materiale. Kombineret med dets fremragende egenskaber med høj renhed, høj termisk stabilitet og korrosionsbestandighed, er det meget udbredt i processer som waferoverførsel, støtte og højtemperaturbehandling, hvilket giver pålidelig garanti for at sikre procesnøjagtighed og produktkvalitet.

Generelt spiller High Purity SiC Cantilever Paddle følgende specifikke roller i halvlederbehandlingsprocessen:

Wafer overførsel: High Purity SiC Cantilever Paddle bruges normalt som en wafer-overførselsenhed i højtemperaturdiffusions- eller oxidationsovne. Dens høje hårdhed gør den slidstærk og ikke let at deformere under langvarig brug og kan sikre, at waferen forbliver nøjagtigt placeret under overførselsprocessen. Kombineret med dens høje temperatur og korrosionsbestandighed, kan den sikkert overføre wafere ind og ud af ovnrøret i højtemperaturmiljøer uden at forårsage forurening eller beskadigelse af waflerne.

Wafer støtte: SiC-materiale har en lav termisk udvidelseskoefficient, hvilket betyder, at dets størrelse ændres mindre, når temperaturen ændres, hvilket hjælper med at opretholde præcis kontrol i processen. I processer med kemisk dampaflejring (CVD) eller fysisk dampaflejring (PVD) bruges SiC Cantilever Paddle til at understøtte og fiksere waferen for at sikre, at waferen forbliver stabil og flad under afsætningsprocessen, og derved forbedre ensartetheden og kvaliteten af ​​filmen .

Anvendelse af højtemperaturprocesser: SiC Cantilever Paddle har fremragende termisk stabilitet og kan modstå temperaturer på op til 1600°C. Derfor er dette produkt meget udbredt i højtemperaturglødning, oxidation, diffusion og andre processer.

Grundlæggende fysiske egenskaber af High Purity SiC Cantilever-pagaj:

High Purity SiC Cantilever-pagajbutikker:

Oversigt over halvlederchip-epitaksi-industrikæden: