Aixtron MOCVD-receptor

Susceptorerne produceret afVetek Semiconductorer lavet af grafitsubstrat og siliciumcarbid (SiC) belægningsmateriale. På grund af SiC-materialets højere slidstyrke, korrosionsbestandighed og ekstremt høje hårdhed er det særligt velegnet til brug i barske procesmiljøer. Derfor kan Susceptorerne produceret af Vetek Semiconductor bruges direkte i højtemperatur MOCVD-processer uden yderligere overfladebehandling.

Susceptorer er nøglekomponenter i halvlederfremstilling, især i MOCVD-udstyr til tyndfilmaflejringsprocesser. Hovedrollen afAixtron SiC-modtageri MOCVD-processen er at bære halvlederskiver, sikre ensartet og høj kvalitet aflejring af tynde film ved at give ensartet varmefordeling og reaktionsmiljø, og derved opnå højkvalitets tyndfilmproduktion.

Aixtron MOCVD-receptorbruges normalt til at understøtte og fiksere bunden af ​​halvlederskiver for at sikre waferens stabilitet under aflejringsprocessen. Samtidig er overfladebelægningen af ​​Aixtron MOCVD Susceptor lavet af siliciumcarbid (SiC), et meget termisk ledende materiale. SiC-belægningen sikrer ensartet temperatur på overfladen af ​​waferen, og ensartet opvarmning er afgørende for at opnå film af høj kvalitet.

DesudenAixtron MOCVD-receptorvi producerer spiller en større rolle i styringen af ​​flow og distribution af reaktive gasser gennem det optimerede design af materialer. Undgå hvirvelstrømme og temperaturgradienter for at opnå ensartet filmaflejring.

Endnu vigtigere, i MOCVD-processen har siliciumcarbid (SiC) belægningsmaterialet korrosionsbestandighed, såVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD-receptorkan også modstå høje temperaturer og ætsende gasser.

Grundlæggende fysiske egenskaber vedSIC COATING:

VeTek Semiconductor Wafer Boat butikker:

Oversigt over halvlederchip-epitaksi-industrikæden: