Tantalcarbid teknologi gennembrud, SiC epitaksial forurening reduceret med 75%?

For nylig har det tyske forskningsinstitut Fraunhofer IISB fået et gennembrud inden for forskning og udvikling aftantalum carbide coating technology, og udviklet en spraybelægningsløsning, der er mere fleksibel og miljøvenlig end CVD-aflejringsløsningen, og som er blevet kommercialiseret.

Og domestic vetek semiconductor har også gjort gennembrud på dette område, se venligst nedenfor for detaljer.

Fraunhofer IISB:

Udvikling af en ny TaC-belægningsteknologi

Den 5. marts ifølge mediet "Sammensat halvleder", Fraunhofer IISB har udviklet en nytantalcarbid (TaC) belægningsteknologi- Taccotta. Teknologilicensen er blevet overført til Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG), og NKCG er begyndt at levere TaC-belagte grafitdele til deres kunder.

Den traditionelle metode til fremstilling af TaC-belægninger i industrien er kemisk dampaflejring (CVD), som står over for ulemper såsom høje fremstillingsomkostninger og lange leveringstider. Derudover er CVD-metoden også tilbøjelig til at revne TaC under gentagen opvarmning og afkøling af komponenter. Disse revner blotlægger den underliggende grafit, som nedbrydes alvorligt over tid og skal udskiftes.

Nyskabelsen ved Taccotta er, at den bruger en vandbaseret sprøjtebelægningsmetode efterfulgt af temperaturbehandling for at danne en TaC-belægning med høj mekanisk stabilitet og justerbar tykkelse pågrafit substrat. Tykkelsen af ​​belægningen kan justeres fra 20 mikron til 200 mikron for at passe til forskellige anvendelseskrav.

The TaC process technology developed by Fraunhofer IISB can adjust the required coating properties, such as thickness, as shown below in the range of 35μm to 110 μm

Specifikt har Taccotta spraybelægning også følgende nøglefunktioner og fordele:

● More environmentally friendly: With water-based spray coating, this method is more environmentally friendly and easy to industrialize;

● Fleksibilitet: Taccotta-teknologien kan tilpasse sig komponenter af forskellige størrelser og geometrier, hvilket muliggør delvis belægning og komponentrenovering, hvilket ikke er muligt i CVD.

● Reduceret tantalforurening: Grafitkomponenter med Taccotta-belægning bruges i SiC epitaksial fremstilling, og tantalforurening er reduceret med 75 % sammenlignet med eksisterendeCVD belægninger.

● Slidstyrke: Ridsetest viser, at øget belægningstykkelse kan forbedre slidstyrken markant.

Ridsetest

Det er rapporteret, at teknologien er blevet fremmet til kommercialisering af NKCG, et joint venture med fokus på at levere højtydende grafitmaterialer og relaterede produkter. NKCG vil også deltage i udviklingen af ​​Taccotta-teknologien i lang tid fremover. Virksomheden er begyndt at levere grafitkomponenter baseret på Taccotta-teknologi til deres kunder.

Vetek Semiconductor fremmer lokaliseringen af ​​TaC

I begyndelsen af ​​2023 lancerede vetek semiconductor en ny generation afSiC krystalvæksttermisk feltmateriale-porøst tantalcarbid.

According to reports, vetek semiconductor has launched a breakthrough in the development of porøst tantalcarbidmed stor porøsitet gennem uafhængig teknologisk forskning og udvikling. Dens porøsitet kan nå op til 75% og opnå international lederskab.