Avanceret porøs grafit

Avanceret porøs grafit, som navnet antyder, er en type grafit, der indeholder indbyrdes forbundne hulrum eller porer i sin struktur. Størrelsen af ​​disse porer kan variere meget, hvilket påvirker materialets ydeevne.

Karakteristika for avanceret porøs grafit:

Stort overfladeareal og stærk adsorptionskapacitet: En af de mest fremragende fordele ved porøs grafit er dens meget større overflade sammenlignet med ikke-porøs grafit, hvilket gør den meget adsorberende.

Fremragende termisk og elektrisk ledningsevne: Porøs grafit har fremragende termisk og elektrisk ledningsevne. Denne egenskab er især vigtig i applikationer, der kræver varmeafledning eller elektrisk ledningsevne.

Fremragende mekanisk styrke: Den mekaniske styrke af porøs grafit er relateret til dets porestruktur og fremstillingsproces. Den mekaniske styrke af porøs grafit er ikke så god som ikke-porøs grafit, men dens mekaniske egenskaber er stadig fremragende.

Kemisk inertitet: Som et grafitprodukt er porøs grafit kemisk inert og kan arbejde i korrosive miljøer. Kemisk inerthed hjælper porøs grafit med at blive brugt i kemiske processer, der kræver modstand mod syrer, baser og opløsningsmidler.

Fremstillingsevne og høj tilpasningsevne: Porestrukturen af ​​porøs grafit kan tilpasses på mange måder. Teknikker såsom kemisk dampaflejring kan bruges til at opnå den porestørrelse og fordeling, som kunden ønsker.

Anvendelser af avanceret porøs grafit:

SiC krystalvækst: Undersøgelser har vist, at i krystalvæksten af ​​SiC hjælper påføringen af ​​porøs grafit til at reducere antallet af mikrotubuli og andre defekter og reducere indholdet af urenhedselementer i krystallen, så porøs grafit kan give stor hjælp til fremstilling af SIC krystaller.

Wafer fabrikation: På grund af sin fremragende varmeledningsevne og korrosionsbestandighed kan porøs grafit bruges til at fremstille waferbærere såsom grafitbåde og grafitpatron. Den porøse grafit er i stand til at arbejde stabilt i miljøer med høje temperaturer, hvilket hjælper waferen med at opretholde en ensartet temperaturfordeling og dermed sikre behandlingsnøjagtighed.

Kemisk dampaflejring (CVD) : Porøs grafit er modstandsdygtig over for høje temperaturer og kemisk inert, så det bruges ofte som reaktorforing og elektrodemateriale som en del af CVD-processen for at fremme filmaflejring af høj kvalitet.

Varmeafledning af halvlederenheder: Den fremragende termiske ledningsevne af porøs grafit gør det til et ideelt valg til varmeafledningsløsninger i halvlederenheder. Det kan laves til køleplade eller termisk grænseflademateriale for at hjælpe med hurtig varmeafledning og forbedre enhedens arbejdseffektivitet og levetid.

Ætsning og ætseprocesser: I tørætsningsprocessen ved halvlederfremstilling kan porøs grafit bruges som et elektrodemateriale eller et katodemateriale, og dets korrosionsbestandighed og elektriske ledningsevne hjælper det med at modstå erosionen af ​​korrosivt plasma, hvilket sikrer stabiliteten og præcisionen af ​​ætseprocessen.

Anvendelser med høj renhed: Porøs grafit er raffineret til at opfylde halvlederindustriens strenge krav til materialerenhed og reducere påvirkningen af ​​urenheder

Som en professionel producent og leverandør af avanceret porøs grafit i Kina, leverer VeTek Semiconductor også en række af højkvalitets grafitprodukter, som f.eks.TaC belægning porøs grafit, Isotropisk grafit, Silikoniseret grafit, Grafitark med høj renhed, SiC krystalvækst porøs grafit, etc., og understøtter skræddersyet teknologi og produktløsninger. Vi ser oprigtigt frem til at blive din langsigtede partner i Kina og velkommen til din konsultation til enhver tid.