CVD SiC er et højrent siliciumcarbidmateriale fremstillet ved kemisk dampaflejring. Det bruges hovedsageligt til forskellige komponenter og belægninger i halvlederbehandlingsudstyr. Følgende indhold er en introduktion til produktklassificeringen og kernefunktionerne i CVD SiC
Læs mereI halvlederfremstillingsindustrien, efterhånden som enhedsstørrelsen fortsætter med at skrumpe, har aflejringsteknologien af tyndfilmsmaterialer givet hidtil usete udfordringer. Atomic Layer Deposition (ALD), som en tyndfilmsdepositionsteknologi, der kan opnå præcis kontrol på atomniveau, er bleve......
Læs mereDet er ideelt at bygge integrerede kredsløb eller halvlederenheder på et perfekt krystallinsk basislag. Epitaksi (epi) processen i halvlederfremstilling har til formål at afsætte et fint enkeltkrystallinsk lag, sædvanligvis omkring 0,5 til 20 mikrometer, på et enkeltkrystallinsk substrat. Epitaksipr......
Læs mere